常见的光学窗口材料一般是绝缘体，其电磁屏蔽能力往往比较差。为了提高光学窗 口的电磁屏蔽性能，本成果通过设计、制备特殊薄膜结构，在保证其高光学透过率的前 提下，实现电磁屏蔽性能的巨大提升。
相关技术指标
该类型窗口元件透过率大于90%@可见及近红外区，明视觉反射率分别为：8 度0.24%， 15度0.21%，30度0.27%；方块电阻低于10ohm/sq，电磁屏蔽能力优于24dB@100MHz-18GHz， 经用户确认，性能指标处于国内领先，达到国际先进水平。
技术创新点
（1）薄膜沉积工艺简单、光学元件透过率高、光谱范围宽； （2）薄膜层缺陷少、抗激光损伤阈值高。
与同类技术优势比较
成本低、光学透过率高、光谱范围宽、抗激光损伤阈值高。
50万
登录
免费发布信息
